荷蘭APMON 表面粒子沉積監(jiān)測系統(tǒng)產(chǎn)品簡介：

APMON表面粒子沉積監(jiān)測儀器，用于測量潔凈環(huán)境中單位體積內(nèi)粒子數(shù)和粒徑分布的儀器。根據(jù)國際較新標(biāo)準(zhǔn)ISO14644-9，基于客戶的較新視角，采用全息成像技術(shù)來檢測粒子，可廣泛應(yīng)用于電子行業(yè)、制藥車間、光學(xué)或*密機(jī)械加工等行業(yè)。（區(qū)別于一般粒子計(jì)數(shù)儀器，此儀器側(cè)重于表面粒子沉積監(jiān)測以及大粒子監(jiān)測分析）

荷蘭APMON 表面粒子沉積監(jiān)測系統(tǒng)工作原理：

檢測設(shè)備采用一定面積的內(nèi)置玻璃板承載墜落顆粒，玻璃板以45度角放置，通過24小時(shí)在線監(jiān)測以及每五分鐘全息成像，對(duì)大于20μm的沉積顆粒的數(shù)量和粒徑進(jìn)行測量得出平均顆粒沉積率。數(shù)據(jù)通過傳感器傳到主機(jī)，自動(dòng)生產(chǎn)污染分析報(bào)告，通過對(duì)潔凈室內(nèi)的人、機(jī)、料、法、環(huán)等排查，幫助用戶找到污染源，優(yōu)化生產(chǎn)流程。

荷蘭APMON 表面粒子沉積監(jiān)測系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域：

電子醫(yī)療

生物制藥

半導(dǎo)體J工

航空航天

光學(xué)*密器械加工（廣泛應(yīng)用于任何對(duì)潔凈室有高要求行業(yè)）

荷蘭APMON 表面粒子沉積監(jiān)測系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)：

·測量表面沉積粒子數(shù)量

·測量范圍20-1000μm，很小精度20μm

·很小5min測量一次

·24/7不間斷監(jiān)測

·可視化報(bào)警提醒

·藍(lán)牙連接

·可存儲(chǔ)約10年歷史數(shù)據(jù)

·1年整機(jī)保修先進(jìn)的全息攝像技術(shù)更持久的使用壽命。

·鋁制與塑料外殼，非污染源設(shè)計(jì)

·支持USB接口

荷蘭APMON 表面粒子沉積監(jiān)測系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配置：

主機(jī)           x1

傳感器         x1

傳感器充電電池 x2

驗(yàn)證盒         x1

用戶軟件       x1

用戶指南

傳感器和遠(yuǎn)程存取電纜

電源適配器